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补牙 窝洞制备后还没开始充填 牙齿就脱落一半。。。。该怎么办

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窝要过程

口腔内科叙述Ⅱ类洞型制备要点？

它由邻面洞和牙合面洞两部分组成。
a.邻面洞部分：①颊、舌壁应越过接触区，达自洁区。②颊、舌壁微向牙合方聚合，形成龈方大于牙合方的梯形。③颊、舌壁的釉质壁应顺釉柱方向，略向外敞开，以防止形成无基釉。④龈壁平或微向根方倾斜，无悬空釉柱，龈壁于轴壁近垂直。⑤轴壁与所在牙面弧度相一致，邻面洞深应为1~1.5mm，如超过2mm，应垫底。⑥在颊、舌和龈壁于轴壁相交的线角处做固位沟，防止邻面部分在水平分力作用下向邻方移位。⑦颊龈、舌龈线角要清晰，但洞缘处应圆缓，以增强抗力和固位。
b.牙合面洞部分：牙合面洞应具有链接和固定邻面充填体的作用，除按一般牙合面洞的设计原则外，应预备鸠尾固位形，防止充填体受水平分力作用向邻方移位。制备要点为：①鸠尾外形呈圆缓曲线。②底平、壁直、线角清晰。③深度恰当且均匀一致。④鸠尾峡位于颊、舌二尖之间的髓壁上方，其宽度位颊舌二间距的1/4~1/3。太窄充填物易折断，太宽固位**。⑤鸠尾形应该顺牙合面裂沟扩展，避让牙尖和边缘嵴，上颌磨牙尽量勿破坏斜嵴。⑥轴壁于髓壁相交形成阶梯，梯的轴髓线角应圆顿，为了增加邻面与牙合面连接部的抗力，可将轴壁向髓壁倾斜，使轴髓线角线角处的充填体厚度增加。

C.V.BLACK Ⅱ类洞制备术怎么制备

碳元素**的最外电子层上有4个电子，与碳相同，硅(Si)、锗(Ge)、锡(Sn)、铅(Pb)元素**的最外电子层上也都有4个电子。这五种元素位于周期表的第ⅣA族，我们称它们为碳族元素。
讨论1 根据所学的元素周期律的知识，试推断出碳族元素性质变化的一些规律性。
碳族元素随着核电荷数的增加，一些性质呈现规律性的变化。例如，在周期表中从上到下，元素**的半径逐渐增大，失电子能力逐渐增强，得电子能力逐渐减弱，非金属性向金属性递变的趋势很明显。在碳族元素的单质中，碳是非金属；硅虽外貌像金属，但在化学反应中多显示非金属性，通常被认为是非金属；锗的金属性比非金属性强；锡和铅都是金属。

备上颌中切牙舌面洞的时候口镜怎么放？

熟能生巧，自己体会，慢慢就习惯了

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口腔窝洞制备固位力，有哪几种形式？

1侧壁固位 这是各类洞最基本的固位形，它要求窝洞有足够的深度。主要依靠充填物和洞璧之间的摩擦而固位，防止充填物沿洞底向侧方移位或者撬动脱落。 2倒凹固位 侧壁固位不足是可以在洞底线角处做圆弧形倒凹。倒凹应做在牙体组织较坚硬的部位。一个洞可以做一个或者几个倒凹。 3鸠尾固位 鸠尾固位是用于复面洞的一种固位形式。总体观似鸠的尾部，由鸠的尾部侠部和膨大的尾部构成。借助于峡部的锁扣作用，可以防止充填物呈水平方向脱出。

Black窝洞分类法分几类？如何分发？讲详细点，谢谢

窝洞分类：

1、Ⅰ类洞：任何牙面的窝沟点隙处发生病损时形成的窝洞，如磨牙和前磨牙的雯面窝沟、切牙的舌侧窝、下磨牙的颊沟和上磨牙的舌沟处的龋损。

2、Ⅱ类洞：前磨牙和磨牙的邻面病损形成的窝洞。

3、Ⅲ类洞：切牙和尖牙的邻面病损，未累及切角时形成的窝洞。

4、Ⅳ类洞：切牙与尖牙的邻面病损，已累及切角时形成的窝洞。

5、Ⅴ类洞：所有牙齿唇(颊)或舌面近龈1/3处的病损形成的窝洞。

临床上还常采用一种按窝洞所包括的牙面数分类的方法，将仅限于一个牙面的窝洞称为单面洞，包括两个以上牙面的窝洞称为复面洞。

扩展资料：

1、I类洞的制备：

I类洞多为单面洞，但当龋损波及颊、舌侧面时，应制成复面洞。单面洞应底平、壁直，窝洞深度达釉牙本质界处。较深的龋损不必要求窝洞底平整，在去尽腐质后可借助垫底形成平底。

复面洞时，颊面或舌面窝洞的龈壁应与牙长轴垂直，其近远中和颊舌宽度均不小于1.5mm。近、远中壁相互平行并垂直于龈壁，轴壁与龈壁垂直。

要面鸠尾固位形的洞形要求同单面洞。鸠尾峡的宽度不小于1.5mm,用高速气涡轮牙钻(裂钻)沿颊沟或舌沟向更面**窝沟或远中窝沟扩展形成鸠尾形。洞底髓壁与轴壁垂直，形成梯阶。

2、Ⅱ类洞的制备

Ⅱ类洞依病变破坏范围可制备单面洞或复面洞。

当病变已累及接触区时，应制备复面洞；若病变未累及接触区，为避免过多磨除健康的牙齿组织，可从邻面制备单面洞；如果从邻面操作极为困难，也可制成复面洞，从更面进行操作。

Ⅱ类洞多数情况下需制备成复面洞。

邻面部分制备：用裂钻从近远中边缘嵴处开扩洞口，钻轴与牙面垂直，洞口的大小与邻面破坏范围一致。

将邻面洞制备成盒状洞形，龈壁与轴壁垂直，宽度不超过2mm。颊舌壁位于自洁区并在要方略靠拢，使龈方颊舌壁间距略大于牙合方。

3、Ⅲ类洞的制备

视病变范围的大小和邻面的存在与否可备成单面洞或复面洞。

单面洞的制备：病变范围较小，龋洞的颊、舌壁有一定厚度且同时伴有龋损侧邻牙缺失，可制备单面洞。

用倒锥钻从邻面去除龋损腐质。

按单面洞制备方法将窝洞制备成与患牙邻面外形相一致的三角形，洞底与牙面形态一致呈凸形，深度达釉牙本质界即可。

可在唇轴舌点角处制作倒凹，倒凹位于釉牙本质界下约0.5毫米处的牙本质中。

复面洞的制备：若前牙邻面龋损破坏范围大，或龋损侧邻牙存在，无备洞操作空间，须制备复面洞。

视龋损破坏范围及方向确定从舌侧或唇侧扩大洞口，如唇侧未遭破坏则尽量从舌侧人口。

用裂钻从舌面边缘峰处开扩洞口，洞口的切龈向宽度应与邻面破坏范围一致。邻面洞形与单面洞相同。

用裂钻从邻面约lmm深处向舌侧窝扩展形成鸠尾形，裂钻的长轴应与舌面垂直。舌面窝洞的洞形与I类洞相同。鸠尾一般不过中线，其切龈宽度约为2.5mm。

切牙的鸠尾应不损伤切嵴、对侧的边缘嵴和舌隆突；由于切牙的唇舌径较小，制作鸠尾固位形时，不可加深窝洞，以免降低牙齿的抗力和意外穿髓。

舌面洞底(髓壁)与邻面洞底(轴壁)互相垂直并形成梯阶。

4、IV类洞的制备

因受银汞合金充填材料性能所限，目前一般不用银汞合金修复IV类洞而改用复合树脂类修复材料或树脂改良型玻璃离子。

5、V类洞的制备

用小号倒锥钻从唇、颊侧备洞，钻针应垂直于牙面，深度约达釉牙本质界处的牙本质中。

洞外形呈肾形，洞底呈凸面，与牙面平行。

龈壁与洞底垂直，可在轴龈线角或轴妥线角处作倒凹以增进固位。

参考资料：

窝洞-百度百科