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蚀刻曝光和显影是什么意思

蚀刻：蚀刻(etching)是将材料使用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。蚀刻的原理是**还原反应中的置换反应：2AgNo3+Cu=Cu(No3)*2+2Ag。利用蚀刻液与铜层反应,蚀去线路板上不需要的铜,得到所要求的线路。蚀刻技术可以分为湿蚀刻(wet etching)和干蚀刻(dry etching)两类。

曝光：经光源作用将原始底片上的图像转移到感光底板（即PCB）上。

蚀刻曝光就是通过曝光制版、显影后，将要蚀刻区域的保护膜去除，在蚀刻时接触化学溶液，达到溶解腐蚀的作用，形成凹凸或者镂空成型的效果。

显影：显影是在印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。通过碱液作用，将未发生光聚合反应之感光材料部分冲掉。显影包括正显影和反转显影。

扩展资料：

英文中的蚀刻一词“Etching”源自于古日耳曼语“吃”，是指利用带有腐蚀性的酸将图案“啃”入坚硬的金属表面。蚀刻被广泛运用于奢侈品，特别是像**这样本身就是坚久耐用的物品。该技术能在金属表面创造出具有高度装饰性的浅浮雕，而又不影响其结构的完整性。

酸能利用化学反应溶解金属。借此在金属表面蚀刻出图案，便可以替代劳动密集型且技术要求更高的手工雕刻。法国学者耶罕·勒贝格在1531年写下了酸浸蚀铁的配方。他从水与醋的混合物中提炼出出氯化铵、普通的明矾和硫酸亚铁。基本原则大体是：金属被蚀刻时先要彻底清洗，之后图上一层耐酸物质。

这被称作为“抗蚀层”。在蜡层中刻出图案，使底下的金属部分显露出来。制备好的金属材料被浸渍在**或者硝酸溶液中，直至其暴露的区域被刻蚀到所需的深度。之后将抗蚀层清除，就可展现出蚀刻的成品样子。烫金或者发黑都可以被用于突出图案。金属蚀刻制品上的图案往往比传统雕刻更方便而代价更少。

显影就是在复印机、打印机中显影就是用带电的色粉使感光鼓上的静电潜像转变成可见的色粉图像的过程。显影包括正显影和反转显影。正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。

静电潜像电位越高的部分，吸附色粉的能力越强；静电潜像电位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。对应静电潜像电位（电荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模拟复印机中。反转显影中，感光鼓与色粉电荷极性相同。

显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域。其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位。多用在数码复合机与激光打印机中。

参考资料1：百度百科-蚀刻

参考资料2：百度百科-显影

什么是蚀刻工艺？

蚀刻机、光刻机、光栅刻画分别是什么意思？

蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。在化学蚀刻中是使用化学溶液，经由化学反应以达到蚀刻的目的，化学蚀刻机是将材料用化学反应或物理撞击作用而移除的技术。

光刻机(Mask Aligner) 又名:掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。Photolithography(光刻) 意思是用光来制作一个图形(工艺);在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时"复制"到硅片上的过程。

光栅刻画:光学中光栅最通常的作用是色散。光栅刻划是制作光栅的方法之一。

蚀刻机

光刻机

蚀刻机是干什么的

不知做啥的？问题不准确，所以不能一语中的！

蚀刻钢网与激光钢网的区别？有谁知道吗？帮忙介绍下。

其实它们有很大的区别，最不同的就是价格与质量上的差异吧！
最主要有三点，外观不同，功能不一样，还有本质也不一样。
激光钢网开口很直、整齐、精度高，没有做好后处理的激光钢网还能看到激光的小黑点，但是蚀刻钢网就没有这些特点，精度并没有激光钢网高。
激光钢网对于比较精密的IC和BGA都是可以用的，不会造成连锡等**反应，而且毫无压力，但是蚀刻钢网却做不到这点。
激光钢网,是以机器为主,工作人员只设计开孔,导入导出文件，激光切割机照着文件雕刻出激光钢网，然后再经过抛光，使之下锡效果更好，速度 快，质量也很不错。蚀刻钢网则多部分由蚀刻技术人员来完成，速度教慢，精度也很难达到。