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光学镀膜参数rave<0.5是什么意思？
rave光学镀膜参数rave<0.5是什么意思？光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。【摘要】
光学镀膜参数rave<0.5是什么意思？【提问】
rave光学镀膜参数rave<0.5是什么意思？光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。【回答】
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JB/T 9180.1-1999
JB/T 9180.1-1999 钢质冷挤压件 公差，已废止，现行版本：JB/T 9180.1-2014 钢质冷挤压件 第1部分：公差 。
光学镀膜加工的主要材料有哪些？
2. 高纯氟化物： 氟化镁、MgF2，氟化镱、YbF3，氟化钇、LaF3，氟化镝、DyF3，氟化钕、NdF3，氟化铒、ErF3，氟化钾、KF，氟化锶、SrF3，氟化钐、SmF3，氟化钠、NaF，氟化钡、BaF2，氟化铈、CeF3，氟化铅等。
3. 混合料： **锆**钛混合料，**锆**钽混合料，**钛**钽混合料，**锆**钇混合料，**钛**铌混合料，**锆**铝混合料，**镁**铝混合料，**铟**锡混合料，**锡**铟混合料，氟化铈氟化钙混合料等混合料 光学镀膜加工
4. 高纯金属类： 高纯铝,高纯铝丝，高纯铝粒，高纯铝片，高纯铝柱，高纯铬粒，高纯铬粉，铬条，高纯金丝，高纯金片，高纯金，高纯金粒，高纯银丝，高纯银粒，高纯银,高纯银片，高纯铂丝，高纯铪粉，高纯铪丝，高纯铪粒，高纯钨粒，高纯钼粒，高纯单晶硅，高纯多晶硅，高纯锗粒，,高纯锰粒，高纯钴，高纯钴粒，高纯钼，高纯钼片，高纯铌，高纯锡粒，高纯锡丝，高纯钨粒，高纯锌粒，高纯钒粒，高纯铁粒，高纯铁粉，海面钛,高纯锆丝，高纯锆，海绵锆,碘化锆,高纯锆粒，高纯锆块，高纯碲粒，高纯锗粒， 高纯钛片，高纯钛粒，高纯镍，高纯镍丝，高纯镍片，高纯镍柱，高纯钽片，高纯钽，高纯钽丝，高纯钽粒，高纯镍铬丝，高纯镍铬粒，高纯镧,高纯镨,高纯钆,高纯铈,高纯铽,高纯钬,高纯钇,高纯镱,高纯铥,高纯铼,高纯铑,高纯钯,高纯铱等.
5. 其他化合物： 钛酸钡，BaTiO3，钛酸镨，PrTiO3，钛酸锶，SrTiO3，钛酸镧，LaTiO3，硫化锌，ZnS，冰晶石，Na3AlF6，硒化锌，ZnSe，硫化镉。
6. 辅料： 钼片，钼舟、钽片、钨片、钨舟、钨绞丝。
从事真空镀膜行业，想了解光学镜片加膜（光学镀膜）一般镀什么膜系？总共有多少层膜？有没有镀300层的可能
跟剧，镜片要达到的光学技术指标要求，镀不同的膜，膜的种类很多，增透，分光，反射，滤光，窄带，导电，等等，多少层都可以镀，300层没必要，100多层足已。
镀膜玻璃节能检测如何评定为合格
镀膜玻璃节能检测的法定单位：国家建材研究院石英玻璃检验检测中心（北京），秦皇岛玻璃研究所，都江堰玻璃检测检验中心，中南大学光学研究所（长沙）
按照国家标准检测后在检测报告上会标注合格或者不合格
镀膜玻璃的主要参数包括什么？
要问题目的问题：镀膜玻璃的主要参数，请查国标，地址是：http://wenku.baidu.com/view/c3716f19a300a6c30c229f1a.html
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
一、概念的区别
1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。
2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。
二、原理的区别
1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法。
2、光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜，一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率，以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失，提高成像质量，涂镀一层或多层透明介质膜，称为增透膜或减反射膜。
随着激光技术的发展，对膜层的反射率和透过率有不同的要求，促进了多层高反射膜和宽带增透膜的发展。为各种应用需要，利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉滤光片等。光学零件表面镀膜后，光在膜层层上多次反射和透射，形成多光束干涉，控制膜层的折射率和厚度，可以得到不同的强度分布，这是干涉镀膜的基本原理。
三、方法和材料的区别
1、真空镀膜的方法材料：
(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。
(2)*极溅射镀：将需镀膜的基体放在*极对面，把惰性气体(如氩)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将*极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的氩离子撞击*极，使其射出**，溅射出的**通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。
(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。
(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和*极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。
2、光学镀膜方法材料
(1)氟化镁：无色四方晶系粉末，纯度高，用其制备光学镀膜可提高透过率，不出崩点。
(2)二**硅：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。
(3)**锆：白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量**锆镀膜，不出崩点。